隨著測量技術(shù)、超   數(shù)控加工技術(shù)、微光刻技術(shù)、生物技術(shù)等的迅猛發(fā)展，對   定位工作臺的精度、運行速度、行程、自動化程度和性等方面均提出了   高的要求?，F(xiàn)代   測量運動平臺多采花崗石平臺，采用靜壓氣體支承技術(shù)。靜壓氣體支承技術(shù)是一種典型的無摩擦氣浮支承技術(shù)，具有響應(yīng)、運行平穩(wěn)、   等優(yōu)點，在   或超   氣浮運動平臺的設(shè)計中常采用該技術(shù)來對運動件進(jìn)行支承。同時，隨著IC(集成電路)技術(shù)和MEMS(微電子機械系統(tǒng))技術(shù)的發(fā)展，   氣浮運動平臺的定位精度    高可達(dá)亞納米級，   的了超   、長行程氣浮定位工作臺的發(fā)展，并有利于這些工作臺在相關(guān)的推廣應(yīng)用。
　　三維   測量技術(shù)是一種基于   運動平臺的   檢測技術(shù)，是超   機加工行業(yè)工件質(zhì)量的重要一環(huán)，其具有測量、穩(wěn)定性好、通用性強(能測長度、角度、形位公差等)、可多維測量、測量等特點?，F(xiàn)代   測量運動平臺多采用靜壓氣浮支承導(dǎo)軌形式作為工作平臺，能夠?qū)崿F(xiàn)檢測對象或超   加工的   運動。在結(jié)構(gòu)設(shè)計方面，根據(jù)適用對象以及測量精度要求的不同，現(xiàn)有三維   測量氣浮平臺主要結(jié)構(gòu)形式有龍門式、橋式、懸臂式三種類型，且以移動龍門式結(jié)構(gòu)應(yīng)用較多，但其在運動精度及存在阿貝誤差等方面的缺陷一直是一大難題。在運動控制方面，三維   測量技術(shù)多數(shù)以運動控制卡為核心，采用PID參數(shù)調(diào)節(jié)及速度、加速度前饋控制模式并以   光柵或激光尺來進(jìn)行位置信息的反饋，可實現(xiàn)連續(xù)軌跡控制功能，    高定位精度水平可達(dá)納米級。在設(shè)計分析方面，主要側(cè)重于   結(jié)構(gòu)參數(shù)對所設(shè)計平臺的靜態(tài)力學(xué)特性的影響以及分析平臺的動力學(xué)響應(yīng)特性，但以理論和仿真   較多，二者與實驗的結(jié)合   相對較少。
　　另外，同   相比，國內(nèi)在對   測量氣浮平臺的測量精度、驅(qū)動控制、性、運動誤差補償?shù)确矫娴募夹g(shù)水平明顯不足，很大部分還處在實驗   階段，   的制約了我國在超精尖等   的發(fā)展。相反，美國、德國、日本等發(fā)達(dá)   對   或超   氣浮定位平臺技術(shù)的   已相對成熟，在近幾十年對相關(guān)技術(shù)進(jìn)行了深層次的探索及。如其廣泛應(yīng)用于超   測量的氣浮定位平臺在機械結(jié)構(gòu)、運動控制、穩(wěn)定性等方面均有了跨越式的發(fā)展，   的了氣浮平臺運動精度的再提高。當(dāng)然，由于   氣浮運動平臺在   測量等的應(yīng)用受多種因素的綜合影響，還有進(jìn)一步   的空間，主要集中在以下幾個方面：(1)結(jié)構(gòu)設(shè)計方面，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計是三維測量裝備力學(xué)性能和測量精度的重要，而現(xiàn)有的氣浮平臺結(jié)構(gòu)形式較為單一，無法測量對象的廣泛性；(2)補償技術(shù)方面，無論是控制系統(tǒng)參數(shù)設(shè)置的不合理性還是外界環(huán)境的影響都會引起平臺運動精度的降低，需要有   的運動控制補償技術(shù)；(3)驅(qū)動控制方面，首先需要   的位置信息反饋系統(tǒng)，實時監(jiān)測氣浮平臺的位置偏離誤差范圍；其次，在運動軌跡規(guī)劃中，對速度以及加速度的控制要求較高；    后，各運動軸的同步控制也有待進(jìn)一步   。
　　氣浮花崗石平臺作為   測量及超   加工裝備的基礎(chǔ)，在相關(guān)技術(shù)   方面己經(jīng)有了堅實的基礎(chǔ)。在近幾年關(guān)于測量技術(shù)的   中，應(yīng)用于三維   測量或其它的氣浮定位工作臺在結(jié)構(gòu)、材料、驅(qū)動、控制、測量等方面有了許多長足的進(jìn)步，使定位工作臺朝、高速度、大行程的方向發(fā)展。超   氣浮定位工作臺是測量機上   重要的關(guān)鍵部件，它直接影響測量機能達(dá)到的測量精度和測量效率。因此，美國、日本等發(fā)達(dá)   在      測量或   加工的同時，積極開展對定位工作臺的   ，不斷研制出、高速度、大行程的定位工作臺來滿足光刻技術(shù)的發(fā)展得需要，而目前   主流的產(chǎn)品是超   氣浮定位工作臺，其主流通用   運動平臺采用的導(dǎo)向和支撐方式多以氣浮導(dǎo)軌和氣浮軸承為主，驅(qū)動方式均采用直線電機驅(qū)動。
　　國內(nèi)   超   定位工作臺的單位雖然不少，但大多限于研制小行程(毫米以下)、的定位工作臺，只有少數(shù)單位能夠生產(chǎn)和研制大行程、超   定位工作臺，如中科院光電所和清華大學(xué)等?？偠灾?，國內(nèi)在   或超   氣浮平臺方面己經(jīng)取得了許多新的突破，但大多數(shù)氣浮平臺多限于小行程、低速運動，且相當(dāng)一部分   所能達(dá)到的精度也于在實驗室環(huán)境下獲得，與   早已經(jīng)在生產(chǎn)實際中廣泛運用還相差甚遠(yuǎn)。同時，國內(nèi)在研制大行程、   或超   定位工作臺方面還存在基礎(chǔ)   薄弱、   新?lián)Q代速度慢等問題，相關(guān)技術(shù)的   在我國尚處于創(chuàng)新性   階段，導(dǎo)致我國超   定位工作臺的研制和發(fā)展水平落后于發(fā)達(dá)   至少十五年，嚴(yán)重制約著我國測量技術(shù)、微電子產(chǎn)業(yè)等的發(fā)展。